Ellipsometri, optisk metode til måling av meget tynne sjikt på materialoverflater. Polarisert lys blir sendt mot en overflate slik at polarisasjonen av utgangslyset (refleksjonen) er avhengig av egenskaper på materialets overflate. Målemetoden kan vise belegg ned til ett atomlag. Ellipsometri har utstrakt anvendelse innen teknologi og forskning, og blir bl.a. brukt til å måle belegg på halvledere. Viktige bidrag til utviklingen av teknikken ble gitt av NTH-professorene Leif Tronstad (1903–45) og Arthur Baker Winterbottom (1904–78), samt professor Ola Hunderi ved samme sted (fra 1996 NTNU).
Versj. 2
Denne versjonen ble sendt inn av Semiautomatisert oppdatering 20. februar 2018.
Den ble godkjent av Erik Bolstad 20. februar 2018.
Artikkelen endret 8 tegn fra forrige versjon.